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單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種先進的材料制備技術,它利用脈沖激光的高能量密度來蒸發(fā)和電離靶材上的物質,并在基底上沉積形成各種物質薄膜。這種系統(tǒng)通常包括一個沉積室,其中激光聚焦于靶材上的一個小面積,使其材料蒸發(fā)或電離并向基底運動?;淄ǔ13衷谳^低的溫度,以便在沉積過程中形成高質量的薄膜。
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)(Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System)是一種先進的薄膜制備技術,它結合了脈沖激光沉積(PLD)技術和雙腔體設計的優(yōu)勢。這種系統(tǒng)通常用于在實驗室環(huán)境中生長高質量的薄膜材料,廣泛應用于物理、化學、材料科學和工程等領域。